[发明专利]一种阵列基板及其制备方法

摘要

本发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法，该方法包括在衬底基板上形成介质层；在所述介质层的表面形成金属层；在所述金属层的表面形成抗反射层，所述抗反射层的材料为氮化钛TIN。本发明实施例中在金属层表面形成材料为TIN的抗反射层，该抗反射层质地均匀致密，表面光滑，弹性良好，附着性好，不但能够消除来自金属层表面的反射，而且能够有效地避免由于应力释放在金属层的有些部位形成空洞或是由金属原子的堆积而形成小丘，使金属层中的电迁移过程中引起的断路或短路的问题，从而提高产品的可靠性。

主权项

一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成介质层；在所述介质层的表面形成金属层；向装有钛靶的PVD设备中置入形成有所述金属层的阵列基板；开启所述PVD设备的阀门，并向装有钛靶的PVD设备通入一定剂量的氩气和氮气，维持5～8秒；开启所述PVD设备的直流电源，并向所述PVD设备通入一定剂量的氩气和氮气，维持3～5秒；将直流电源的功率增加到反应功率，并继续向PVD设备通入一定剂量的氩气和氮气，维持13～18秒；所述氩气在直流电源产生的电场作用下轰击钛靶，使钛靶与氮气发生反应，在所述金属层的表面形成抗反射层；所述抗反射层的厚度为30nm‑40nm。