[发明专利]一种光电子器件有效

专利信息
申请号: 201410014142.3 申请日: 2014-01-10
公开(公告)号: CN104779308B 公开(公告)日: 2017-07-25
发明(设计)人: 刘利书;梅增霞;侯尧楠;刘章龙;梁会力;刘尧平;杜小龙 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L31/0264 分类号: H01L31/0264;H01L31/18
代理公司: 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙)11391 代理人: 范晓斌,薛峰
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种提高MgxZn1‑xO导电性的方法及其在光电子器件中的应用。本发明的提高MgxZn1‑xO薄膜导电性的方法,包括对MgxZn1‑xO薄膜进行氟掺杂获得氟掺杂的MgxZn1‑xO薄膜;或直接制备氟掺杂的MgxZn1‑xO薄膜。本发明的一种光电子器件,包括有源层以及设置在有源层上的金属电极层,其中,所述有源层包括氟掺杂的MgxZn1‑xO层。本发明通过氟掺杂实现包括深紫外在内的MgxZn1‑xO的电性调控。本发明利用氟原子的有效掺杂提供多余的载流子,从而获得电学性能大幅度改善的n型导电性的MgxZn1‑xO薄膜。
搜索关键词: 提高 mg sub zn 导电性 方法 及其 光电子 器件 中的 应用
【主权项】:
一种光电子器件,包括有源层以及设置在有源层上的金属电极层,其中,所述有源层仅由氟掺杂的MgxZn1‑xO层构成,所述氟掺杂的MgxZn1‑xO层的厚度在200纳米‑1微米之间;所述光电子器件还包括衬底,所述氟掺杂的MgxZn1‑xO层直接形成在所述衬底上。
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