[发明专利]一种光电子器件有效
申请号: | 201410014142.3 | 申请日: | 2014-01-10 |
公开(公告)号: | CN104779308B | 公开(公告)日: | 2017-07-25 |
发明(设计)人: | 刘利书;梅增霞;侯尧楠;刘章龙;梁会力;刘尧平;杜小龙 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L31/0264 | 分类号: | H01L31/0264;H01L31/18 |
代理公司: | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙)11391 | 代理人: | 范晓斌,薛峰 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种提高MgxZn1‑xO导电性的方法及其在光电子器件中的应用。本发明的提高MgxZn1‑xO薄膜导电性的方法,包括对MgxZn1‑xO薄膜进行氟掺杂获得氟掺杂的MgxZn1‑xO薄膜;或直接制备氟掺杂的MgxZn1‑xO薄膜。本发明的一种光电子器件,包括有源层以及设置在有源层上的金属电极层,其中,所述有源层包括氟掺杂的MgxZn1‑xO层。本发明通过氟掺杂实现包括深紫外在内的MgxZn1‑xO的电性调控。本发明利用氟原子的有效掺杂提供多余的载流子,从而获得电学性能大幅度改善的n型导电性的MgxZn1‑xO薄膜。 | ||
搜索关键词: | 提高 mg sub zn 导电性 方法 及其 光电子 器件 中的 应用 | ||
【主权项】:
一种光电子器件,包括有源层以及设置在有源层上的金属电极层,其中,所述有源层仅由氟掺杂的MgxZn1‑xO层构成,所述氟掺杂的MgxZn1‑xO层的厚度在200纳米‑1微米之间;所述光电子器件还包括衬底,所述氟掺杂的MgxZn1‑xO层直接形成在所述衬底上。
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