[发明专利]蚀刻液及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201410015519.7 | 申请日： | 2014-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN103755147A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 梁晓;唐洪;田博 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种蚀刻液及其制备方法与应用。本发明提供的透明导电膜用蚀刻液，包括如下各组分：式I所示磺酸类化合物、草酸、甲叉膦酸盐类络合物和水。该透明导电膜刻蚀液在触摸屏生产工艺中用尤其适用于蚀刻ITO膜，在蚀刻过程中完全不产生蚀刻残渣，有效抑制有效起泡，没有大量泡沫产生，且能够在温和的工作条件下对无定形ITO膜高效且高精度地进行蚀刻，蚀刻效率和精度均可满足现有要求，具有重要的应用价值。 |
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| 搜索关键词： | 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，包括如下各组分：式I所示磺酸类化合物、草酸、甲叉膦酸盐类络合物和水；![]()
式I所述式I中，R1为-CH2-、-C2H4-、-C3H6-或-C4H8-。
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