[发明专利]一种月面地形地貌模拟器制造方法有效

专利信息
申请号: 201410016681.0 申请日: 2014-01-14
公开(公告)号: CN103884520A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 贾永;邢琰;毛晓艳;王大轶;徐希悦;何英姿;陈建新;何健;刘云;刘祥;滕宝毅;梁枫;谭顺栓 申请(专利权)人: 北京控制工程研究所
主分类号: G01M99/00 分类号: G01M99/00;G01C25/00
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 臧春喜
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种月面地形地貌模拟器制造方法,(1)本发明提出了根据典型月球表面统计特征随机生成月面地形地貌模拟器等高线图的方法,保证了相关试验的可靠性。(2)本发明在制造过程中对月面地形地貌模拟器的光学反射特性进行测试,确保所制造的月面地形地貌模拟器对月面相关特性的模拟的精确性,从而保证了相关试验的有效性。(3)本发明采取先制造,再测量光照反射特性,最后月面地形地貌模拟器稳定后再用三维激光扫描的办法,这样既能保证月面地形地貌模拟器制造的方便性,又能控制月面地形地貌模拟器表面地形的精度。
搜索关键词: 一种 地形 地貌 模拟器 制造 方法
【主权项】:
一种月面地形地貌模拟器制造方法,其特征在于步骤如下:(1)根据月球表面地形统计特征,计算出相应面积内月球着陆区的典型地形地貌特征,典型地形地貌特征包括撞击坑、斜坡、月表岩石的数量和规格,再根据典型地形地貌特征的剖面特征数据,随机生成对应面积的三维地形图;(2)根据随机生成的三维地形图,按照指定的间距,生成等高线图;(3)根据等高线图制造月面地形地貌模拟器整体的底盘和基础地形,并完成基础地形的现场拼接,然后等待月面地形地貌模拟器小样试制结果;(4)根据部分等高线图,试制不同的月面地形地貌模拟器小样,根据分析计算,使用不同的表面材料和工艺手法,试制不同的月面地形地貌模拟器表面,然后对各个月面地形地貌模拟器小样进行成像测试、后向反射特性测试以及反照率测试,得到合格的月面地形地貌模拟器小样,并记载合格的月面地形地貌模拟器小样的表面材料属性、表面处理工艺数据,从而形成固定的月面地形地貌模拟器表面制造工艺;(5)利用步骤(4)中确定的月面地形地貌模拟器表面制造工艺,对月面地形地貌模拟器整体的表面进行处理;(6)对月面地形地貌模拟器整体表面进行成像测试、后向反射特性测试以及反照率测试,如果测试不合格,则根据步骤(4)中的月面地形地貌模拟器表面工艺,对月面地形地貌模拟器局部进行修改,然后进行步骤(5),直到月面地形地貌模拟器整体测试合格;(7)对月面地形地貌模拟器整体进行三维激光扫描,得到月面地形地貌模拟器三维地形数据,模拟器制造完成。
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