[发明专利]一种静电放电保护结构在审

专利信息
申请号: 201410016868.0 申请日: 2014-01-15
公开(公告)号: CN103745976A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 吕宇强 申请(专利权)人: 帝奥微电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 代理人: 金利琴
地址: 201103 上海市闵行区合川*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种静电放电保护结构,包括一衬底,P阱、N阱,N阱内包括第一N型注入区、第一P型注入区、第二N型注入区的一部分,且三者之间用氧化硅隔离;P阱内从N阱端开始依次包括所述第二N型注入区的另一部分、第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区,其中第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区之间用氧化硅隔离,第二N型注入区的另一部分和第三N型注入区之间的表面设有多晶硅栅极,第一P型注入区、第一N型注入区、第四N型注入区连接被保护管脚,多晶硅栅极、第三N型注入区、第二P型注入区、第三P型注入区接地端。本发明结构简单,且具有很高的正向和反向静电放电防护能力。
搜索关键词: 一种 静电 放电 保护 结构
【主权项】:
一种静电放电保护结构,其特征在于:包括一衬底,P阱、N阱,所述N阱内包括第一N型注入区、第一P型注入区、第二N型注入区的一部分,且三者之间用氧化硅隔离;所述P阱内从N阱端开始依次包括所述第二N型注入区的另一部分、第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区,其中第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区之间用氧化硅隔离,所述第二N型注入区的另一部分和第三N型注入区之间的表面设有多晶硅栅极,所述第一P型注入区、第一N型注入区、第四N型注入区连接被保护管脚,所述多晶硅栅极、第三N型注入区、第二P型注入区、第三P型注入区接地端。
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