[发明专利]一种静电放电保护结构在审
申请号: | 201410016868.0 | 申请日: | 2014-01-15 |
公开(公告)号: | CN103745976A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 吕宇强 | 申请(专利权)人: | 帝奥微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 | 代理人: | 金利琴 |
地址: | 201103 上海市闵行区合川*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开一种静电放电保护结构,包括一衬底,P阱、N阱,N阱内包括第一N型注入区、第一P型注入区、第二N型注入区的一部分,且三者之间用氧化硅隔离;P阱内从N阱端开始依次包括所述第二N型注入区的另一部分、第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区,其中第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区之间用氧化硅隔离,第二N型注入区的另一部分和第三N型注入区之间的表面设有多晶硅栅极,第一P型注入区、第一N型注入区、第四N型注入区连接被保护管脚,多晶硅栅极、第三N型注入区、第二P型注入区、第三P型注入区接地端。本发明结构简单,且具有很高的正向和反向静电放电防护能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 静电 放电 保护 结构 | ||
【主权项】:
一种静电放电保护结构,其特征在于:包括一衬底,P阱、N阱,所述N阱内包括第一N型注入区、第一P型注入区、第二N型注入区的一部分,且三者之间用氧化硅隔离;所述P阱内从N阱端开始依次包括所述第二N型注入区的另一部分、第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区,其中第三N型注入区、第二P型注入区、第四N型注入区、第三P型注入区之间用氧化硅隔离,所述第二N型注入区的另一部分和第三N型注入区之间的表面设有多晶硅栅极,所述第一P型注入区、第一N型注入区、第四N型注入区连接被保护管脚,所述多晶硅栅极、第三N型注入区、第二P型注入区、第三P型注入区接地端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的