[发明专利]一种微纳米结构成形方法有效
| 申请号： | 201410018577.5 | 申请日： | 2014-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN104793462A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 张宜文 | 申请（专利权）人： | 四川云盾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G02B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人： | 林辉轮;王芸 |
| 地址： | 610207 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种微纳米结构成形方法：(1)在基底表面涂覆光刻胶；(2)将基底的光刻胶面和掩模图形分别放置于微透镜阵列的像面和物面处；(3)在掩模图形上方放置毛玻璃，并利用光源照射毛玻璃产生散射光，作为掩模图形的曝光光源；(4)对掩模图形进行缩小投影曝光，在曝光过程中，移动掩模图形或移动涂覆有光刻胶的基片，或移动微透镜阵列实现对抗蚀剂表面光强的连续调制；(5)更换其它物体，并移动掩模图形、微透镜阵列、涂覆抗蚀剂基片三者之间的相对位置，重复步骤(4)实现不同物体的嵌套光刻；取出基片进行显影，获得需要的连续面形微结构。本发明不需要大型设备制备光刻掩膜，大大降低了工艺的复杂程度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 结构 成形 方法 | ||
【主权项】：
一种微纳米结构成形方法，其特征在于步骤如下：(1)在基底表面涂覆光刻胶；(2)将基底的光刻胶面和掩模图形分别放置于微透镜阵列的像面和物面处；(3)在掩模图形上方放置毛玻璃，并利用光源照射毛玻璃产生散射光，作为掩模图形的曝光光源；(4)对掩模图形进行缩小投影曝光，在曝光过程中，移动掩模图形或移动涂覆有光刻胶的基片，或移动微透镜阵列实现对抗蚀剂表面光强的连续调制；(5)更换其它物体，并移动掩模图形、微透镜阵列、涂覆抗蚀剂基片三者之间的相对位置，重复步骤(4)实现不同物体的嵌套光刻；(6)取出基片进行显影，即可获得需要的连续面形微结构。
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