[发明专利]投影曝光装置

摘要

本发明公开了一种投影曝光装置，包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜以及承载基板的工件台，所述照明系统产生照明光束照射所述掩模，所述投影物镜将所述掩模上的图案投影到所述基板表面，其特征在于，还包括调焦调平装置，所述调焦调平装置在所述投影物镜的视场内产生多个测量点，且每一测量点包括至少3个测量子光斑。本发明既可以极大提高曝光设备生产效率、降低设备使用成本；又通过一次曝光即可得到更大尺寸的屏幕，从而减小由于拼接曝光所带来的复杂工艺及制造成本上升；同时利用同步扫描技术、像传感器技术及曝光过程焦面实时控制技术，极大地提高投影曝光装置套刻精度及成像质量，满足低成本，高产量的生产需要。

主权项

一种投影曝光装置，包括：照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜以及承载基板的工件台，所述照明系统产生照明光束照射所述掩模，所述投影物镜将所述掩模上的图案投影到所述基板表面，其特征在于，还包括：调焦调平装置，所述调焦调平装置在所述投影物镜的视场内产生5个测量点，5个测量点在所述视场内的布局方式为：4个测量点呈方形分布，1个测量点位于方形分布的中心，分别是M1，M2，M3，M4和M5，且每一测量点包括至少3个测量子光斑；所述投影物镜成像视场在X方向即非扫描方向长度为L，在Y方向即扫描方向长度为M，以L、M方向建立二维坐标系，视场中心坐标为(0，0)，则5个测量点M1，M2，M3，M4和M5在投影物镜成像视场内的坐标分别为(L/2，M/2)、(‑L/2，M/2)、(‑L/2，‑M/2)、(L/2，M/L)、(0，0)；所述位于第一象限的测量点M1和位于第三象限的测量点M3，其测量点内子光斑的布局方向与点(0，‑M/2)和点(‑L/2，0)连线平行，同时也与点(0，M/2)和点(L/2，0)连线平行；所述位于第二象限的测量点M2和位于第四象限的测量点M4，其测量点内子光斑的布局方向与点(0，M/2)和点(‑L/2，0)；连线平行，同时也与点(0，‑M/2)和点(L/2，0)连线平行。