[发明专利]一种具有五靶头的磁控共溅射设备有效
| 申请号： | 201410020952.X | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103849843A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 杨晓阳;陈伯良;李向阳;贾嘉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有五靶头的磁控共溅射设备，本发明磁控溅射设备在腔体内设置有三个溅射靶、基片台、基片台支架、基片台挡板。所述的三个溅射靶包括两个单靶头溅射靶和一个三靶头溅射靶，可通过旋转安装于所述的腔体外侧的转轮把手选择溅射靶材。所述的基片台支架用于支撑基片台，所述的基片台挡板安装在基片台上方。本发明提供的磁控溅射设备，可实现五种溅射靶材料单独溅射或三靶共聚焦溅射功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 五靶头 磁控共 溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种具有五靶头的磁控共溅射设备，包括腔体，在腔体内设置的三个溅射靶、基片台、基片台支架和基片台挡板，其特征在于：所述的三个溅射靶为两个单靶头溅射靶和一个三靶头溅射靶，三个溅射靶共聚焦于基片台的中心；所述的两个单靶头溅射靶与一个三靶头溅射靶的靶材直径为2英寸，两个单靶头溅射靶方向与靶管之间的夹角为20°－23°；每个单靶头溅射靶设有用于调整溅射焦点在基片台中心的波纹管、铰链与插销；各个溅射靶靶头中心与所述基片台中心距离为10－20cm；两个单靶头溅射靶与三靶头溅射靶和所述的腔体顶盖中心在水平方向上的夹角为130°－135°；三靶头溅射靶的旋转轴与所述腔体顶盖法线在垂直方向上夹角为15°－20°，三靶头溅射靶相对于靶中心之间夹角为120°。
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