[发明专利]双体双面真空镀膜设备无效
| 申请号： | 201410022033.6 | 申请日： | 2014-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN103741098A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 李飞;李兰民 | 申请（专利权）人： | 遵化市超越钛金设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/35 |
| 代理公司： | 唐山永和专利商标事务所 13103 | 代理人： | 张云和 |
| 地址： | 064200 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜设备，具体是一种双体双面真空镀膜设备。包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，镀膜室为两个，镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发射装置。本设备两个独立的镀膜室可对待镀工件同时实现双面镀膜，大大提高生产效率；采用内外筒体结构的镀膜室有效减小镀膜室的空闲容积，降低真空泵的功耗；用一套共用电源和控制系统，可降低生产成本；低真空系统和高真空系统通过转换阀门交替为两个镀膜室抽真空，大大提高了真空系统的利用率。本设备不仅适用于多弧离子镀，也适用于磁控溅射镀、蒸发镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种双体双面真空镀膜设备，包括镀膜室、真空系统、控制真空系统的电控系统，其特征在于，所述的镀膜室为两个，所述的镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体，所述的内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区，所述的内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发射装置。
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