[发明专利]多孔电极制备在审
申请号: | 201410022296.7 | 申请日: | 2014-01-17 |
公开(公告)号: | CN103943377A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 陈永胜;侯栋;马春印 | 申请(专利权)人: | 天津普兰纳米科技有限公司 |
主分类号: | H01G11/86 | 分类号: | H01G11/86;H01M4/04 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;阴亮 |
地址: | 300384 天津市南*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 公开了制备多孔电极的方法以及由所述方法制备的多孔电极。所述方法包括:将活性物质、粘结剂、导电剂和少量溶剂进行混炼,以形成胶团;对所述胶团进行辊压,以形成活性物质膜;将导电胶在集流体上形成导电涂层;以及将所述活性物质膜和所述形成导电涂层的集流体进行热压复合。 | ||
搜索关键词: | 多孔 电极 制备 | ||
【主权项】:
制备多孔电极的方法,其包括:将活性物质、粘结剂、导电剂和少量溶剂进行混炼,以形成胶团;对所述胶团进行辊压,以形成活性物质膜;将导电胶在集流体上形成导电涂层;以及将所述活性物质膜和所述形成导电涂层的集流体进行热压复合。
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