[发明专利]喷镀膜和带覆膜的金属构件有效
申请号: | 201410022457.2 | 申请日: | 2014-01-17 |
公开(公告)号: | CN103938144B | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 水野宏昭;太田恭平;佐藤和人 | 申请(专利权)人: | 福吉米株式会社 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种喷镀膜和带覆膜的金属构件,所述喷镀膜具有瓷器所显现的优异的质感和色调,并且也可同时实现对基材的密合性、硬度等机械特性。制造一种喷镀膜,其为以金属氧化物为主要成分的喷镀颗粒在金属基材上沉积而成的喷镀膜,该喷镀膜在与基材相邻的区域具备第1喷镀层,在包含喷镀膜的表面的区域具备第2喷镀层,第2喷镀层的表面的孔隙率为5%以上且15%以下。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 带覆膜 金属构件 | ||
【主权项】:
1.一种带覆膜的金属构件,其中,在金属基材的表面具备喷镀膜,所述喷镀膜为以金属氧化物为主要成分的喷镀颗粒在金属基材上沉积而成的喷镀膜,该喷镀膜在与所述基材相邻的区域具备第1喷镀层,在包含所述喷镀膜的表面的区域具备第2喷镀层,所述第1喷镀层的与基材表面垂直的截面中的孔隙率为2%以上且20%以下,所述第2喷镀层的表面的孔隙率为5%以上且15%以下,所述第2喷镀层的在所述表面露出的喷镀颗粒的平均粒径为1μm以上且30μm以下。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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