[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理装置的操作方法

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，其将从至少两个高频电源分别向上部电极和/或下部电极供给与等离子体相关的高频电力，可靠地检测反射波的变动，将异常放电发生防患于未然。阈值设定部（123）在来自第二高频电源部（75）的高频的供给稳定后，在时刻（T3）在第一高频电源部（65）和第二高频电源部（75）中，将遮断用阈值的电平均切换为相对低的电平。该遮断用阈值的相对低的电平在第一高频电源部和第二高频电源部中，均从相同的时间继续。在时刻（T4），由第一高频电源部开始第一次的电力供给的增加时，阈值设定部重新设定遮断用阈值，分别提升至相对高的电平。该相对高的电平在第一高频电源部和第二高频电源部中从相同的时间继续。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：收纳被处理体的处理容器；输出与在所述处理容器内生成的等离子体相关的高频的多个高频电源；对至所述多个高频电源的反射波分别进行检测的多个反射波检测部；对所述多个高频电源的输出进行控制的电力控制部；遮断控制部，其在所述多个高频电源的任意个中的反射波的检测值超过对各高频电源预先设定的遮断用阈值的情况下，遮断全部所述多个高频电源的高频的供给；和阈值设定部，在所述多个高频电源的任意个中，在开始供给高频的时刻或者使输出变化的时刻将所述遮断用阈值全部设定为相对高的电平，对于所述多个高频电源的全部，在高频的供给稳定后将所述遮断用阈值的全部切换为相对低的电平。