[发明专利]超导纳米线单光子探测器的制备方法

摘要

本发明提供了一种制备超导纳米线单光子探测器的方法，包括：在一硬性基底上形成与预定图形一致的硬模图形，所述硬模图形从所述硬性基底的基本平坦的表面向上凸起，通过热压印工艺将所述硬模图形转移到一软模上形成软模板；提供一超导材料形成的超导薄膜层，所述超导薄膜层上涂覆有一层紫外光固化胶层；通过紫外压印工艺将所述软模上的图形转移到所述紫外光固化胶层上，以便在所述紫外光固化胶层上形成掩模图形；以及利用所述掩模图形，采用反应离子刻蚀工艺在所述超导薄膜层上形成由具有所述预定图形的所述超导纳米线。本发明的方法具有高效率、高分辨率、低成本的优点，且工艺简单，适于生产大探测面积或阵列形式的超导纳米线单光子探测器。

主权项

一种制备超导纳米线单光子探测器的方法，用于形成由折线型延伸的超导纳米线形成的预定图形，包括：在一硬性基底上形成与所述预定图形一致的硬模图形，所述硬模图形从所述硬性基底的基本平坦的表面向上凸起，从而获得硬模板；将所述硬模板的带有所述硬模图形的表面压到一软模上，通过热压印工艺将所述硬模板的硬模图形转移到所述软模上，以便在所述软模上形成与所述硬模图形互补的软模图形，从而获得软模板；其中，所述软模图形由从所述软模的基本平坦的表面向下凹入的沟道形成；提供一超导材料形成的超导薄膜层，所述超导薄膜层上涂覆有一层紫外光固化胶层；将所述软模板的带有所述软模图形的表面压到所述紫外光固化胶层上，通过紫外压印工艺将所述软模板的软模图形转移到所述紫外光固化胶层上，以便在所述紫外光固化胶层上形成与所述软模图形互补的掩模图形；以及利用所述掩模图形，采用反应离子刻蚀工艺在所述超导薄膜层上形成具有所述预定图形的所述超导纳米线。