[发明专利]氧化铜掺杂氧化锌的多孔薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410022990.9 申请日: 2014-01-17
公开(公告)号: CN103771899A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 段国韬;张洪文;许宗珂;蔡伟平 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: C04B41/50 分类号: C04B41/50;C04B41/85;C03C17/23
代理公司: 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 代理人: 任岗生
地址: 230031 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种氧化铜掺杂氧化锌的多孔薄膜及其制备方法。多孔薄膜为衬底上覆有一层以上的掺杂有氧化铜的氧化锌多孔薄膜,多孔薄膜中的氧化铜与氧化锌之间的原子百分比为0.1~95at%:5~99.9at%,膜厚为20~4000nm、碗状孔的孔直径为50~5000nm;方法为按照铜离子:锌离子的浓度比为0.1~95:5~99.9的比例,将硝酸铜溶液和硝酸锌溶液混合得到金属氧化物前驱体溶液后,先将单层胶体晶体模板浸入金属氧化物前驱体溶液中,待其脱离基底后用衬底捞起单层胶体晶体,得到覆有单层胶体晶体并渍有前驱体溶液的衬底,再将其干燥后退火,得到其表面覆有碗状孔的氧化铜掺杂氧化锌多孔薄膜的衬底,重复上述成膜过程0次以上,制得目的产物。它可广泛地用于硫化氢气体的探测。
搜索关键词: 氧化铜 掺杂 氧化锌 多孔 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种氧化铜掺杂氧化锌的多孔薄膜,包括覆于衬底上的氧化锌薄膜,其特征在于:所述氧化锌薄膜中掺杂有氧化铜,所述掺杂有氧化铜的氧化锌薄膜中的氧化铜与氧化锌之间的原子百分比为0.1~95at%:5~99.9at%;所述掺杂有氧化铜的氧化锌薄膜为多孔薄膜,所述多孔薄膜的膜厚为20~4000nm、碗状孔的孔直径为50~5000nm。
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