[发明专利]悬空氮化物薄膜LED器件及制备方法有效
申请号: | 201410026373.6 | 申请日: | 2014-01-21 |
公开(公告)号: | CN103779452A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 王永进;白丹;施政;李欣;高绪敏;陈佳佳;朱洪波 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/32;H01L33/22 |
代理公司: | 江苏爱信律师事务所 32241 | 代理人: | 刘琦 |
地址: | 210023 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种悬空氮化物薄膜LED器件及其制备方法,实现载体为硅衬底氮化物晶片,包括顶层氮化物器件层和硅衬底层;该方法能够实现高折射率硅衬底层和氮化物器件层的剥离,消除硅衬底层对激发光的吸收,实现悬空氮化物薄膜LED器件;顶层氮化物器件层的上表面具有纳米结构,用以改善氮化物的界面状态,提高出光效率;结合背后对准和深硅刻蚀技术,去除LED器件下方的硅衬底层,得到悬空氮化物薄膜LED器件,进一步采用氮化物背后减薄刻蚀技术,获得超薄的悬空氮化物薄膜LED器件,降低LED器件的内部损耗,提高出光效率。 | ||
搜索关键词: | 悬空 氮化物 薄膜 led 器件 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种悬空氮化物薄膜LED器件,其特征在于,该器件以生长有P‑N结的硅基氮化物晶片为载体,包括硅衬底层(1)、设置在所述硅衬底层(1)上的氮化镓层(2)、生长在所述氮化镓层(2)上的P‑N结和设置在所述P‑N结上侧的谐振光栅(3),所述P‑N结和谐振光栅(3)构成LED发光器件,所述LED发光器件下方设置有贯穿硅衬底层(1)和氮化镓层(2)的空腔,使得LED发光器件完全悬空;所述P‑N结包括从下至上依次连接设置的N‑GaN接触层(4)、量子阱(5)和P‑GaN接触层(6),所述谐振光栅(3)设置在P‑GaN接触层(6)上表面,所述P‑GaN接触层(6)上表面位于谐振光栅(3)一侧的区域蒸镀有沉积金属材料为Ni/Au的P‑电极(7),所述N‑GaN接触层(4)上表面为刻蚀出的阶梯状台面,所述阶梯状台面包括一个上台面和位于上台面一侧的下台面,所述上台面与量子阱(5)的底面连接,所述下台面上蒸镀有沉积金属材料为Ti/Al的N‑电极(8)。
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