[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法有效
申请号: | 201410030630.3 | 申请日: | 2014-01-22 |
公开(公告)号: | CN104241071B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 森本未知数;安井尚辉;大越康雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05H1/46 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 王亚爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供在对等离子体生成用高频电力和高频偏置电力进行时间调制的等离子体处理装置中能稳定地供应高频偏置电力的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置具备供应用于在真空容器内生成等离子体的第一高频电力的第一高频电源、对载置样品的样品台供应第二高频电力的第二高频电源、以及第二高频电源的匹配器,在对第一高频电力和第二高频电力进行时间调制的情况下,匹配器在采样有效期间内采样用于进行匹配的信息,该采样有效期间设为从以时间调制后的第二高频电力的导通开始时间作为开始时间的给定时间经过后起至导通结束时间为止的期间;且从导通结束时间后起至下一采样有效期间为止,进行控制来维持在采样有效期间内所进行的匹配状态。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,具备:真空容器;第一高频电源,其供应用于在所述真空容器内生成等离子体的第一高频电力;样品台,其配置于所述真空容器内,用于载置样品;第二高频电源,其对所述样品台供应第二高频电力;以及匹配器,其进行用于抑制所述第二高频电力的反射的匹配,所述等离子体处理装置的特征在于,在对所述第一高频电力和所述第二高频电力进行时间调制的情况下,所述匹配器在所述时间调制后的第二高频电力的导通期间内的采样有效期间内取得用于进行所述匹配的信息,所述采样有效期间是从基于时间调制后的等离子体的密度而求取到的给定时间经过后起至所述时间调制后的第二高频电力的导通结束时间为止的期间,并且基于用于对所述第二高频电力进行时间调制的频率、用于对所述第二高频电力进行时间调制的占空比、和所述给定时间来求取,所述给定时间在所述时间调制后的第二高频电力的导通期间内从所述时间调制后的第二高频电力的导通开始时间起开始,并且不取得用于进行所述匹配的信息。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410030630.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一体化加工装置
- 下一篇:扫描头及运用此扫描头的扫描臂