[发明专利]一类哌嗪修饰的酞菁配合物及其制备方法有效
| 申请号： | 201410034749.8 | 申请日： | 2014-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103772397A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 刘见永;薛金萍;袁晓 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C07D487/22 | 分类号： | C07D487/22;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一类哌嗪修饰的酞菁配合物及其制备方法和应用，在金属酞菁大环周边引入哌嗪分子，以增加酞菁的两亲性、生物相容性和靶向性。哌嗪基团中含有两个N原子，当所合成的酞菁配合物进入组织后，如果是正常组织，在光照条件下，哌嗪基团N原子上的孤对电子能淬灭酞菁的单重激发态，从而无单线态氧产生；肿瘤组织中显弱酸性，N被质子化，因而不能淬灭酞菁的单重激发态，这样就能产生单线态氧，杀死肿瘤细胞。基于以上理论，哌嗪基团的引入将能提高酞菁光动力治疗的选择性，减少其对正常组织的损伤。哌嗪修饰酞菁配合物配合物结构单一，不存在异构体，产品容易提纯，成本低，有利于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一类 修饰 配合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一类哌嗪修饰的酞菁配合物，其特征在于：所述的酞菁配合物结构式如下所示：![]()
（Ⅰ），其中R为(CH2)nCH3或(CH2CH2O)nCH3，n=1-3。
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