[发明专利]二氧化氯气体生成系统和二氧化氯气体分解装置有效
| 申请号： | 201410035507.0 | 申请日： | 2014-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN103964384B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 阪田总一郎;井上正宪;佐藤克己 | 申请（专利权）人： | 高砂热学工业株式会社 |
| 主分类号： | C01B11/02 | 分类号： | C01B11/02;B01D53/68;B01D53/86 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 | 代理人： | 周善来,李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供二氧化氯气体生成系统和二氧化氯气体分解装置，即，提供能生成二氧化氯气体，并且能用比以往更短的时间使二氧化氯气体分解的技术。二氧化氯气体生成系统包括生成二氧化氯气体的二氧化氯气体生成装置、以及吸入并分解从所述二氧化氯气体生成装置向室内送出的二氧化氯气体的残留气体的二氧化氯气体分解装置，所述二氧化氯气体分解装置包含滤材，所述滤材含有氧化锰和高锰酸盐中的至少任意一方。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 氯气 生成 系统 分解 装置 | ||
【主权项】：
一种二氧化氯气体生成系统，其特征在于，所述二氧化氯气体生成系统包括：二氧化氯气体生成装置，生成二氧化氯气体；以及二氧化氯气体分解装置，吸入从所述二氧化氯气体生成装置释放到室内的二氧化氯气体的残留气体并对该残留气体进行分解，所述二氧化氯气体分解装置包含滤材，所述滤材含有氧化锰和高锰酸盐中的至少任意一方。
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