[发明专利]溅射镀膜的方法无效
| 申请号： | 201410036067.0 | 申请日： | 2014-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103774107A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 张迅;张伯伦;李景艳;易伟华 | 申请（专利权）人： | 江西沃格光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射镀膜的方法。该溅射镀膜的方法包括提供基板，将所述基板放置于定位托盘中；将放置有基板的所述定位托盘传送入卧式溅射室中；以及在所述卧式溅射室中，采用磁控溅射在所述基板上镀膜的步骤。上述溅射镀膜方法将基板放置于定位托盘中，然后将定位托盘传送入卧式溅射室中进行镀膜，这种卧式工艺中，基板直接放置于定位托盘中不会掉落，无需采用夹具固定基板，避免了边缘效应和产品破裂的风险，产品良率高。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射镀膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：提供基板，将所述基板放置于定位托盘中；将放置有基板的所述定位托盘传送入卧式溅射室中；以及在所述卧式溅射室中，采用磁控溅射在所述基板上镀膜。
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