[发明专利]一种功分比可调PLC型光功分器及制备方法和调节方法有效
申请号: | 201410036213.X | 申请日: | 2014-01-24 |
公开(公告)号: | CN103760690A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 孙小菡;蒋卫锋;戚健庭;潘超;陈源源;董纳 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02B6/13 |
代理公司: | 江苏永衡昭辉律师事务所 32250 | 代理人: | 王斌 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种功分比可调PLC型光功分器,采用平面光波光路PLC芯片,平面光波光路PLC芯片包括硅衬底、二氧化硅缓冲层、波导、覆盖层,以及刻蚀在覆盖层上的2n+1-2个电极,波导包括n级分路结构,第i级分路结构中包括2i-1个分路单元,且每个分路单元呈Y形,每个分路单元包括一个输入波导和两个输出波导,每个分路单元上设有波导光栅,电极位于波导光栅两侧。该光功分器可实现功分比精细可调,同时,本发明还提供该光功分器的制备方法,该制备方法简单、成本低、可批量制作,本发明还提供该光功分器的调节方法,可实现功分比的精确调节。 | ||
搜索关键词: | 一种 可调 plc 型光功分器 制备 方法 调节 | ||
【主权项】:
一种功分比可调PLC型光功分器,其特征在于,该光功分器采用平面光波光路PLC芯片,平面光波光路PLC芯片包括硅衬底(1)、生长在硅衬底(1)上方的二氧化硅缓冲层(2)、生长在二氧化硅缓冲层(2)上方的波导(4)、生长在波导(4)外表面的覆盖层(5),以及刻蚀在覆盖层(5)上的2n+1‑2个电极(7),波导(4)包括n级分路结构,第i级分路结构中包括2i‑1个分路单元,且每个分路单元呈Y形,每个分路单元包括一个输入波导和两个输出波导,每个分路单元上设有波导光栅(401),电极(7)位于波导光栅(401)两侧,当n=1时,有1级分路结构;当n=2时,第1级分路结构中的每个输出波导与第2级分路结构中的一个输入波导连接;当n≥3时,第w级分路结构中每个输出波导与第w+1级分路结构中的一个输入波导连接,第w级分路结构中的每个输入波导与第w‑1级分路结构中的一个输出波导连接;其中,n、i和w均为正整数,且1≤i≤n,2≤w≤n‑1。
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