[发明专利]X-射线成像空间分布不均匀性的校正方法

摘要

本发明公开了X-射线成像空间分布不均匀性的校正方法，首先使平板探测器在位置z₁输出一个均匀的图像，然后使平板探测器在位置z₂收到一帧强度不均匀分布图像，通过对这一帧强度不均匀分布图像用二次多项式函数进行拟合得到图像校正系数，这样将平板探测器移动到任何一个待矫正的位置z，通过二次多项式函数及图像校正系数即可得到位置z上的均匀图像。因而，就可以将X-射线所成的像的不均匀性进行修正，从而达到均匀成像的效果。

主权项

X‑射线成像空间分布不均匀性的校正方法，其特征在于至少包括如下步骤： 将平板探测器放在位置z₁并正对X‑射线源，调节平板探测器每一个像素单元的灵敏度，使得输出的信号形成一个均匀的图像； 将平板探测器移动到位置z₂且仍然正对X‑射线源，这时平板探测器就会收到一帧强度不均匀分布图像； 将位置z₂上这一帧强度不均匀分布图像沿X、Y轴采集信号，并将该信号用二次多项式函数进行拟合得到图像校正系数； 将平板探测器移动到任何一个待矫正的位置z，通过二次多项式函数及图像校正系数得到位置z上的均匀图像。