[发明专利]排气取样装置及排气取样分析系统

摘要

本发明提供排气取样装置和排气取样分析系统，在CVS的上游未设置热交换器的结构的排气取样装置中，把流入分析用设备的稀释排气的流量调整成规定值，排气取样装置包括：主流道；CVS，设在主流道上；稀释排气取样流道，从主流道采集稀释排气的一部分，并将其导入分析用设备；流量控制机构，控制由稀释排气取样流道采集的稀释排气的流量；控制装置，设定由所述稀释排气取样流道采集的稀释排气的流量与流过CVS的稀释排气的流量的分流比，控制装置使用流过CVS的稀释排气的流量或与该稀释排气的流量有关的值，以使流入分析用设备的稀释排气的流速成为规定值的方式设定分流比（Q_samp/Q_CVS）。

主权项

1.一种排气取样装置，其特征在于，所述排气取样装置包括：排气流道，排气流过该排气流道；稀释用气体流道，稀释用气体流过该稀释用气体流道；主流道，与所述排气流道和所述稀释用气体流道连接，使把所述排气和所述稀释用气体混合后得到的稀释排气流过；定容取样装置，设置在所述主流道上；稀释排气取样流道，从所述主流道采集所述稀释排气的一部分，并将采集到的所述稀释排气的一部分导入分析用设备；流量控制机构，设置在所述稀释排气取样流道上，控制由所述稀释排气取样流道采集的采集稀释排气的流量；以及控制装置，控制所述流量控制机构，设定分流比，所述分流比为由所述稀释排气取样流道采集的采集稀释排气的流量与流过所述定容取样装置的所述稀释排气的流量的比率，所述稀释排气取样流道具备第二次稀释机构，所述第二次稀释机构进一步对所述采集稀释排气进行第二次稀释，所述二次稀释机构具备：第二次稀释用气体流道，流过对所述采集稀释排气进一步稀释的第二次稀释用气体；以及第二次稀释用气体流量控制机构，控制流过所述第二次稀释用气体流道的第二次稀释用气体的流量，所述控制装置使用流过所述定容取样装置的稀释排气的温度，控制所述稀释排气取样流道的所述流量控制机构和所述第二次稀释用气体流道的所述第二次稀释用气体流量控制机构，设定所述分流比和所述第二次稀释机构的第二次稀释比，以使流入所述分析用设备的采集稀释排气的流量成为规定值。