[发明专利]一种负性光刻胶及其制备方法、使用方法在审
| 申请号： | 201410037970.9 | 申请日： | 2014-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN103809378A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 汪建国;胡合合 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种负性光刻胶及其制备方法、使用方法，涉及光刻胶领域，可以降低生产成本，广泛应用于实际生产中。所述制备方法包括：按照质量配比，将1～90份的含羟基或羧基的成膜树脂，1～99份的含硅乙烯基醚化合物以及0.5～15份的交联剂，溶解在能够溶解上述物质的有机溶剂中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 及其 制备 方法 使用方法 | ||
【主权项】：
一种负性光刻胶的制备方法，其特征在于，包括：按照质量配比，将1～90份的含羟基或羧基的成膜树脂，1～99份的含硅乙烯基醚化合物，0.1～15份的交联剂，溶解在能够溶解上述物质的有机溶剂中。
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