[发明专利]电感耦合等离子体处理装置在审
申请号: | 201410039246.X | 申请日: | 2014-01-27 |
公开(公告)号: | CN103985624A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 山泽阳平;佐佐木和男;古屋敦城;齐藤均 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05H1/46 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种能够使用金属窗对大型被处理基板进行均匀的等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置。该电感耦合等离子体处理装置对矩形形状的基板进行电感耦合等离子体处理,包括:收纳基板的处理室;用于在处理室生成电感耦合等离子体的高频天线;和金属窗,其配置在生成电感耦合等离子体的等离子体生成区域和高频天线之间,与基板对应地设置,金属窗(2)由狭缝(7)分割为多个区域,具有与长边(2b)对应的长边侧区域(202b)和与短边(2a)对应的短边侧区域(202a),狭缝中外侧狭缝(71)具有与短边侧区域对应的短边侧部分(71a)和与长边侧区域对应的长边侧部分(71b),短边侧部分的宽度大于长边侧部分的宽度。 | ||
搜索关键词: | 电感 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种对基板实施电感耦合等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置,该电感耦合等离子体处理装置的特征在于,包括:收纳基板的处理室;用于在所述处理室内的配置基板的区域生成电感耦合等离子体的高频天线;和金属窗,其配置在生成所述电感耦合等离子体的等离子体生成区域和所述高频天线之间,与基板对应地设置,所述金属窗由狭缝分割为多个区域,所述狭缝至少其一部分形成为宽度随位置而不同,由此,能够调整由供给至所述高频天线的电流形成在所述处理室的感应电场的分布。
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