[发明专利]一种InAsxP1-x合金纳米线及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410039958.1 申请日: 2014-01-27
公开(公告)号: CN103737010A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 潘安练;任品云;朱小莉 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: B22F9/16 分类号: B22F9/16;B82Y40/00
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 颜勇
地址: 410082 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明采用一种经过改良的化学气相沉积(CVD)法,结合离子交换机制和气液固(VLS)生长机制制备出组份连续可调的InAsxP1-x合金纳米线。其化学式为InAsxP1-x,其中0≤x≤1。这些合成的纳米线都有好的结晶质量。且低温(77K)下的光致发光表明这些InAsxP1-x纳米线呈现出与组分相关的带边发射,峰值波长从860nm到2900nm连续可调。该方法简单,成本较低,可操作性强。运用该方法合成的InAsxP1-x合金纳米线在红外光探测,生物传感以及可调谐光电器件等领域都有潜在的运用价值。
搜索关键词: 一种 inas sub 合金 纳米 及其 制备 方法
【主权项】:
一种InAsxP1‑x纳米线,其特征在于:所述InAsxP1‑x纳米线中x取值为0‑1,不包含1。
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