[发明专利]一种铟镓锌氧化物半导体薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410040761.X 申请日: 2014-01-27
公开(公告)号: CN103779425A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 方汉铿;谢应涛;蔡述澄;欧阳世宏;石强 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人: 郑立
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种铟镓锌氧化物半导体薄膜的制备方法,包括如下步骤:a)制备乙酰丙酮镓的乙醇溶液、乙酰丙酮锌水合物的乙醇溶液和乙酰丙酮铟的四氢呋喃溶液;b)将三种溶液进行混合并搅拌均匀,制得铟镓锌氧化物的前驱体溶液;c)将前驱体溶液沉积在基板材料上并进行退火处理,制得铟镓锌氧化物半导体薄膜。本发明制备工艺简单、可控,成本低,光电性能优良。
搜索关键词: 一种 铟镓锌 氧化物 半导体 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种铟镓锌氧化物半导体薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:a)分别制备乙酰丙酮镓的乙醇溶液、乙酰丙酮锌水合物的乙醇溶液和乙酰丙酮铟的四氢呋喃溶液;b)将步骤a)所得的三种溶液进行混合,制得铟镓锌氧化物的前驱体溶液;c)将步骤b)所得的前驱体溶液混合均匀;d)将步骤c)所得的前驱体溶液沉积在基板材料上,制得铟镓锌氧化物半导体薄膜;e)将步骤d)所得的铟镓锌氧化物半导体薄膜进行退火处理,即得所需的铟镓锌氧化物半导体薄膜。
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