[发明专利]一种减反结构和减反膜有效
| 申请号： | 201410042064.8 | 申请日： | 2014-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN103744132B | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 于甄;胡坤;刘玉婷 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/116 | 分类号： | G02B1/116;B32B15/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 唐灵,常亮 |
| 地址： | 215634 江苏省苏州市张*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种减反结构和减反膜，包括位于上下外侧的两层介质层、位于中间的导电金属层和分别夹在导电金属层与两层介质层之间的两层抗氧化金属层，其中所述抗氧化金属层为锌或钛。该减反结构的实际物理厚度在几十个纳米的范围，利用该减反结构，选择柔性基材，通过卷对卷磁控溅射的方法，实现具有优异光学性能且厚度仅有几十个纳米的减反射膜的大规模生产，为克服传统减反膜的缺点进行大面积产业化生产指明一条新思路。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 减反膜 | ||
【主权项】：
一种减反结构，其特征在于：所述减反结构为5层膜结构，包括位于上下外侧的两层介质层、位于中间的导电金属层和分别夹在导电金属层与两层介质层之间的两层抗氧化金属层，其中所述抗氧化金属层为锌，所述两层介质层的总光学厚度为1个光学单位，且该两层介质层的光学厚度以中间的导电金属层为镜像对称，所述两层介质层的折射率分别大于2；光学厚度的计算公式nd＝λ/4，其中n为介质层的折射率，d为介质层的物理厚度，λ/4为一个光学单位；所述导电金属层的厚度小于10nm，抗氧化金属层的厚度在1‑10nm之间，且该两层抗氧化金属层以中间的导电金属层为镜像对称。
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