[发明专利]一种激光直写系统与光刻方法有效
| 申请号： | 201410042111.9 | 申请日： | 2014-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN103744271A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 朱鹏飞;浦东林;胡进;陈林森;朱鸣;魏国军 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐灵;常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种激光直写系统与光刻方法，包括焦距测量系统和曝光系统，所述焦距测量系统采用离线的方式测量整个待刻物体表面的三维形貌信息之后，将所述三维形貌信息转化为调焦信息并发送给所述曝光系统，所述曝光系统根据所述调焦信息，在对所述待刻物体表面进行光刻过程中，调节焦距以适合所述待刻物体表面的凹凸程度，使曝光点始终聚焦于所述光刻物体的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 系统 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种激光直写系统，其特征在于：包括焦距测量系统和曝光系统，所述焦距测量系统采用离线的方式测量整个待刻物体表面的三维形貌信息之后，将所述三维形貌信息转化为调焦信息并发送给所述曝光系统，所述曝光系统根据所述调焦信息，在对所述待刻物体表面进行光刻过程中，调节焦距以适合所述待刻物体表面的凹凸程度，使曝光点始终聚焦于所述光刻物体的表面。
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