[发明专利]改善工艺窗口的光学临近修正方法

摘要

一种改善工艺窗口的光学临近修正方法，包括：第一步骤，输入目标图形，对目标图形边进行切割；第二步骤，模拟目标图形，计算第一参数、第二参数和第三参数的初始值；第三步骤，设定参数；第四步骤，根据第一参数的当前值进行修正，得到修正后的图形，并且重新计算以得到更新的第一参数值、更新的第二参数值、以及更新的第三参数值，并且根据计算出修正后的综合误差；第五步骤，判断修正后的综合误差是否不大于最大容许误差，而且判断第四步骤被执行的次数是否等于或者大于最大修正次数；在第五步骤的判断结果是修正后的综合误差大于最大容许误差、且第四步骤被执行的次数小于最大修正次数时，重新执行第四步骤和第五步骤。

主权项

一种改善工艺窗口的光学临近修正方法，其特征在于包括：第一步骤，用于输入目标图形，并对目标图形边进行切割，并指定切割线段；第二步骤，用于在未进行光学临近修正情况下模拟目标图形，并计算第一参数的初始值EPE₀、第二参数的初始值MEEF₀、和第三参数的初始值SLOPE₀，并且将第一参数的初始值EPE₀设定为第一参数的当前值；第三步骤，用于设定光学临近修正的最大修正次数以及最大容许误差，而且设定第一参数的权重因子W_Ｅ、第二参数的权重因子，W_Ｍ、以及第三参数的权重因子W_Ｓ；第四步骤，用于根据第一参数的当前值进行修正，得到修正后的图形，并且重新计算以得到更新的第一参数值EPE₁、更新的第二参数值MEEF₁、以及更新的第三参数值SLOPE₁，并且将更新的第一参数值EPE₁设定为第一参数的当前值；随后，根据下述公式计算出修正后的综合误差Cindex₁：Cindex₁=W_Ｅ*EPE₁＋W_Ｍ*（MEEF₁／MEEF₀）＋W_Ｓ*（SLOPE₀／SLOPE₁）。