[发明专利]全铝掺杂N型太阳能电池的制备方法无效
申请号: | 201410042959.1 | 申请日: | 2014-01-29 |
公开(公告)号: | CN103746043A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 傅建奇;张勤杰;李秀青;华永云;顾生刚 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陶金龙 |
地址: | 100016 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明的全铝掺杂N型太阳能电池的制备方法,包括:提供一个N型半导体衬底;在N型半导体衬底正面形成N+层;在N+层上形成氮化硅薄膜;在N型半导体衬底背面形成全铝背场;在氮化硅薄膜上制备正电极;对N型半导体衬底进行高温烧结,使正电极与N+层相接触,并在N型半导体衬底背面形成P型层;在全铝背场表面制备背电极;低温烧结背电极。本发明的制备方法,采用全背场网版进行印刷,经高温烧结能够形成良好的PN结,从而提高了太阳能电池的光电性能;经过低温烧结制备出背电极,克服了传统银铝背电极只能在高温下完成烧结的问题,由于背电极烧结深度低,不会对PN结产生影响,能够进行后期组件焊接,且符合组件加工力学性能指标。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种全铝掺杂N型太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S01:提供一个N型半导体衬底;步骤S02:在所述N型半导体衬底的正面形成N+层;步骤S03:在所述N+层上形成氮化硅薄膜;步骤S04:在所述N型半导体衬底的背面形成全铝背场;步骤S05:在所述氮化硅薄膜上制备正电极;步骤S06:对所述N型半导体衬底进行高温烧结,使所述正电极与所述N+层相接触,并在所述N型半导体衬底的背面形成P型层;步骤S07:在所述全铝背场表面制备背电极;步骤S08:低温烧结所述背电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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