[发明专利]一种多晶硅还原装置在审
申请号: | 201410044113.1 | 申请日: | 2014-01-29 |
公开(公告)号: | CN104803388A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | 郭增昌;吕学谦 | 申请(专利权)人: | 新特能源股份有限公司 |
主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗建民;邓伯英 |
地址: | 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市乌鲁*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | 本发明公开了一种多晶硅还原装置,包括多晶硅还原炉体,该炉体设置有进气口和排气口,进气口设置于炉体的底部,排气口设置于炉体的顶部。该装置使得原料气三氯氢硅和氢气在炉体内采用下进上出的平推流式流动,使炉体内的混合气基本上都是沿着硅棒表面自下向上流动。这种平推流式流动使得气体流动性增强,且气体不会返回流动,避免了炉体内产生局部高温区域,避免了三氯氢硅热解产生无定型硅,更加避免了进一步的无定型硅在多晶硅还原炉体的内壁面的附着,降低了装置的还原电耗,避免原料气短路,促进多晶硅在硅棒表面的沉积速率,节约原料气,生产出的硅棒根除了“菜花”和“玉米粒”等肌瘤现象,提高原料气生产多晶硅的生产效率,提高产品成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 还原 装置 | ||
【主权项】:
一种多晶硅还原装置,包括多晶硅还原炉体,该炉体设置有进气口和排气口,其特征在于,所述进气口设置于所述炉体的底部,所述排气口设置于所述炉体的顶部。
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