[发明专利]基板处理装置

摘要

一种基板处理装置，其包含有水平保持基板的旋转卡盘；通过将磷酸水溶液供给于保持在旋转卡盘上的基板的上面，形成覆盖基板的上面全区域的磷酸水溶液的液膜的磷酸供给装置；以磷酸水溶液的液膜保持于基板上的状态加热基板的加热装置；向磷酸水溶液的液膜供给纯水的纯水供给装置。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，其包含：水平保持基板的基板保持装置；通过将磷酸水溶液供给于保持在所述基板保持装置的基板的上面，形成覆盖所述基板的上面全区域的磷酸水溶液的液膜的磷酸供给装置；在所述磷酸水溶液的液膜保持于所述基板上的状态下加热所述基板以使所述磷酸水溶液的液膜被加热至对应其浓度的沸点并维持在沸腾状态的加热装置；在所述加热装置加热所述磷酸水溶液的液膜时，通过向所述磷酸水溶液的液膜供给水，使所述磷酸水溶液的液膜维持在沸腾状态并且使伴随着通过所述加热装置进行的加热所产生的水分的蒸发而在所述磷酸水溶液的液膜上产生的焦磷酸减少的水供给装置。