[发明专利]一种制备具有择尤取向及高脱嵌锂性能的Mo4O11与制备方法有效
| 申请号： | 201410054123.3 | 申请日： | 2014-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN103794770A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 王义智;李钒;徐梦迪;宫宏宇 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | H01M4/48 | 分类号： | H01M4/48;H01M4/62;H01M4/131;H01M10/0525;C01G39/02 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种制备具有择尤取向及高脱嵌锂性能的Mo4O11与制备方法，属于锂离子电池领域。所述的材料为具有很多晶体学台阶面暴露的Mo4O11，将储锂材料Mo4O11进行刻蚀处理，所用的刻蚀剂可以为甲醛、甲酸、高氯酸、氨水、乙二醇、硼氢化钠溶液等，刻蚀时间为1-30天。刻蚀后的Mo4O11材料，比容量高，能量密度高，循环稳定性好，库伦效应高。其晶体学台阶面暴露多，提高了材料的化学活性，具有良好的储锂性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 具有 取向 高脱嵌锂 性能 mo sub 11 方法 | ||
【主权项】：
一种具有择尤取向的高容量、高库伦效应和脱嵌锂能力的锂离子电池材料，其特征在于，具有很多晶体学台阶面暴露的Mo4O11。
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