[发明专利]基准电压产生电路有效

专利信息
申请号: 201410054346.X 申请日: 2014-02-18
公开(公告)号: CN104007778B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 吉野英生 申请(专利权)人: 精工半导体有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 李辉,黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供基准电压产生电路,其即使存在制造工序偏差也具有平坦的温度特性。在半导体制造工艺结束后的半导体装置的电气特性的评价中,分别对3个单位基准电压产生电路(10)的基准电压VREF的温度特性进行评价。然后,从3个单位基准电压产生电路(10)中,仅选择具有最平坦的温度特性的单位基准电压产生电路(10)。只有此处选择出的单位基准电压产生电路(10)的熔断器(13~14)不被断开,而其他熔断器(13~14)被断开。因此,只有选择出的单位基准电压产生电路(10)工作,其他单位基准电压产生电路(10)不工作。
搜索关键词: 基准 电压 产生 电路
【主权项】:
一种基准电压产生电路,其搭载于半导体装置并产生基准电压,该基准电压产生电路的特征在于,所述基准电压产生电路具有多个并联连接的单位基准电压产生电路,所述单位基准电压产生电路具有:恒流电路,其具有产生恒定电流的耗尽型NMOS晶体管,该耗尽型NMOS晶体管的栅电极与源极连接,其中,所述栅电极为N型导电型;增强型NMOS晶体管,其具有P型导电型的栅电极,该增强型NMOS晶体管与所述恒流电路串联且以二极管方式进行连接,具有与所述耗尽型NMOS晶体管相同的沟道杂质分布;第一电流截止电路,其与所述恒流电路和所述增强型NMOS晶体管串联连接,能够截止电流;以及第二电流截止电路,其设置在所述增强型NMOS晶体管的漏极与基准电压端子之间,所述多个单位基准电压产生电路分别具有不同的沟道杂质分布。
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