[发明专利]一种固定装置、反应腔室及等离子体加工设备

摘要

本发明提供了一种固定装置、反应腔室及等离子体加工设备，固定装置用于将被加工工件固定在位于反应腔室内的基座的承载面上，固定装置包括位于基座上方的固定环板，在固定环板的内周壁上设置有沿其周向间隔设置的多个固定爪，每个固定爪的下表面叠置在置于基座的承载面上的被加工工件的上表面的边缘区域以将被加工工件固定在基座的承载面上。本发明提供的固定装置，其可以无需相对于固定装置下降基座就可以增大被加工工件的可加工面积，因而可以满足后续工序的需要和降低后续工序的加工难度，从而可以保证工艺的稳定性。

主权项

一种固定装置，用于将被加工工件固定在位于反应腔室内的基座的承载面上，其特征在于，所述固定装置包括位于所述基座上方的固定环板，在所述固定环板的内周壁上设置有沿其周向间隔设置的多个固定爪，每个所述固定爪的下表面叠置在置于所述基座的承载面上的被加工工件的上表面的边缘区域以将所述被加工工件固定在所述基座的承载面上；所述固定装置还包括与所述固定环板相对设置的遮挡环，所述遮挡环的外径不小于所述固定环板的外径，所述遮挡环的内径与所述固定环板的内径相等；所述遮挡环的数量为一个或多个，当所述遮挡环的数量为多个时，在每个所述遮挡环的下表面，且靠近其外缘的区域设置有凸部，所述遮挡环的凸部的下端叠置在位于其下方且相邻的所述遮挡环的上表面上，位于最下层的遮挡环的凸部的下端叠置在所述固定环板的上表面上，当所述遮挡环的数量为一个时，所述凸部的下端叠置在所述固定环板的上表面上。