[发明专利]正色调有机溶剂显像的化学增强抗蚀剂有效
| 申请号： | 201410061770.7 | 申请日： | 2014-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN104007623B | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | R·D·艾伦;R·阿约西;L·D·玻加诺;W·D·辛斯伯格;L·K·桑德伯格;S·A·斯万松;H·D·特鲁昂;G·M·瓦尔拉夫 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司;JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 彭立兵,林柏楠 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。 | ||
| 搜索关键词： | 色调 有机溶剂 显像 化学 增强 抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种方法，其包括：在化学增强抗蚀剂中用有机显像剂溶剂将正色调图像显像，其中有机显像剂溶剂包含乙二醇与异丙醇的混合物或甘油与异丙醇的混合物，且进一步，其中有机显像剂溶剂具有不多于2.6×10‑4M氢氧根离子。
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