[发明专利]X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 201410063011.4 申请日: 2014-02-24
公开(公告)号: CN104181181B 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 米田哲弥;丸井隆雄;松尾正之 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 肖华
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够缩短分析时间且能够高精度地进行分析的X射线分析装置。沿着衍射圆(基准圆)C将多个检测元件(21)的各检测面配置在圆弧上。因此,可以利用各检测元件(21)在焦点位置对在试样S衍射后的X射线进行检测。由此,可以防止由各检测元件(21)检测到的X射线强度产生误差,所以可以得到更正确的衍射信息。因此,通过利用多个检测元件(21)对在试样S衍射后的X射线进行检测,能够缩短分析时间且能够高精度地进行分析。
搜索关键词: 射线 分析 装置
【主权项】:
一种X射线分析装置,具有:用于对试样照射X射线的X射线源;检测器,其具有多个检测元件,利用各检测元件对在试样衍射后的X射线进行检测;以及移动分析机构,其用于使所述X射线源以及所述检测器在以试样为中心的基准圆上相对移动并进行分析,所述X射线分析装置的特征在于,所述多个检测元件的各检测面沿着所述基准圆位于圆弧上,所述X射线分析装置还具有圆弧曲率变更机构,其用于通过使所述多个检测元件相对移动来对所述多个检测元件的各检测面所在的圆弧的曲率进行变更。
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