[发明专利]一种模拟垢下腐蚀的双电解池及应用有效
申请号: | 201410064700.7 | 申请日: | 2014-02-26 |
公开(公告)号: | CN103792182A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 鞠虹;丁莉;陈洁净 | 申请(专利权)人: | 中国石油大学(华东) |
主分类号: | G01N17/02 | 分类号: | G01N17/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266580 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种垢下腐蚀电化学参数的测试技术及其专用子母配套双电解池。该电解池装置包括有机玻璃双电解池、工作电极、辅助电极、参比电极和离子扩散通道。有机玻璃双电解池由外电解池和内电解池组成;外电解池为敞开体系,有通气孔,用于本体溶液阴极区测量;内电解池为密闭装置,用于垢层下闭塞微环境的阳极区测量。工作电极、辅助电极和参比电极通过电解池顶盖上的橡胶塞固定,用于电化学参数的测量。离子扩散通道是连接内外电解池的有机玻璃通道,在通道中填充腐蚀垢层用于模拟真实垢层环境,并实现垢层内外离子的交换;扩散通道通过栓塞固定。该电解池便于垢下腐蚀的各项电化学参数的测量、可以较为准确地模拟垢层内、外的腐蚀环境,获取垢下腐蚀过程的信息及其动态变化。 | ||
搜索关键词: | 一种 模拟 腐蚀 电解池 应用 | ||
【主权项】:
本发明专利涉及到一种用于研究垢下腐蚀行为和机理的子母配套双电解池及应用,子母配套双电解池由外电解池1和内电解池2组成,包括:工作电极3、闭塞区工作阳极4、辅助电极5、参比电极6和离子扩散通道8。外电解池1为敞开体系,用于本体溶液阴极区测量;外电解池1由有机玻璃制做,顶盖由橡胶塞7固定,顶盖留有通气孔9;工作电极3、辅助电极5和参比电极6固定于橡胶塞7上。内电解池2为密闭装置,用于模拟垢层下闭塞区微环境溶液的阳极区测量;内电解池2的侧壁由有机玻璃制做,顶盖和底座由橡胶塞7固定;辅助电极5和参比电极6固定于顶盖橡胶塞7上,闭塞区工作阳极4镶嵌于底座橡胶塞7上。离子扩散通道8是连接内外电解池的有机玻璃通道,在通道中填充腐蚀垢层用于模拟真实垢下腐蚀情况,并实现垢层内外离子的交换,内、外电解池离子扩散通道通过栓塞10连接,便于拆卸、安装和更换腐蚀垢层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油大学(华东),未经中国石油大学(华东)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410064700.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。