[发明专利]对称的气相沉积设备的反应腔体有效
申请号: | 201410067272.3 | 申请日: | 2014-02-26 |
公开(公告)号: | CN104862667B | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 甘志银;植成杨 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人: | 李平 |
地址: | 528251 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种对称的气相沉积设备的反应腔体,主要包括反应气体输入体、加热器、载片盘、载片盘支撑、反应腔体外壳、加热器、加热器支撑、反应气体通道、腔体底座、尾气排出口,其特征在于所述尾气排出口设置在腔体底座中心位置,腔体底座中间设置一个气腔并且气腔的周身都是冷却腔。本发明的优点是尾气排出口设置在腔体底座中心位置,使得从进气到出气整个结构呈对称分布,保证和提高了反应腔体中气体流动分布的均匀性,尾气通过腔体底座中的气腔,底座气腔周身的冷却面对反应尾气进行冷却,可以使反应尾气充分均匀冷却,减少沉积物的产生和避免反应尾气高温损害尾气处理系统。 | ||
搜索关键词: | 对称 沉积 设备 反应 | ||
【主权项】:
一种对称的气相沉积设备的反应腔体,反应腔体设有反应气体输入体(1)和尾气排气口(26),反应腔体内设有反应气体通道(12),腔体外壳(2)和反应腔体内壁(3)之间设有腔壁冷却腔(6),腔壁冷却腔(6)设有腔壁冷却液入口(4)和腔壁冷却液出口(5),载片盘(7)设于载片盘支撑(11)上,载片盘支撑(11)经载片盘支撑旋转轴承(18)安装于腔体底座(27),加热器(9)经加热器支撑(10)安装于载片盘(7)的下方,驱动磁流体(19)和磁流体旋转轴(20)以及传动轮(21)安装于反应腔体的一侧面,经驱动轮(17)与载片盘支撑旋转轴承(18)连接驱动载片盘支撑(11)旋转,其特征在于所述尾气排气口(26)设置在腔体底座(27)的中心位置,腔体底座(27)中间设有环形气体缓冲腔(15)与气腔(25),气腔(25)周身分别设置下底座冷却腔(28)和上底座冷却腔(29),下底座冷却腔(28)与上底座冷却腔(29)互相连通,腔体底座(27)设有环形通道(13),反应气体通道(12)经过环形通道(13)、环形气体缓冲腔(15)连接腔体底座(27)的气腔(25),尾气排气口(26)与气腔(25)相连,环形气体缓冲腔(15)内设有圆周均匀分布的穿过冷却腔(24)并连接气腔(25)的通道(16),腔体底座(27)设有冷却液进口(22)和冷却液出口(23)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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