[发明专利]对称的气相沉积设备的反应腔体有效

专利信息
申请号: 201410067272.3 申请日: 2014-02-26
公开(公告)号: CN104862667B 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 甘志银;植成杨 申请(专利权)人: 甘志银
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/455
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 李平
地址: 528251 广东省佛山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种对称的气相沉积设备的反应腔体,主要包括反应气体输入体、加热器、载片盘、载片盘支撑、反应腔体外壳、加热器、加热器支撑、反应气体通道、腔体底座、尾气排出口,其特征在于所述尾气排出口设置在腔体底座中心位置,腔体底座中间设置一个气腔并且气腔的周身都是冷却腔。本发明的优点是尾气排出口设置在腔体底座中心位置,使得从进气到出气整个结构呈对称分布,保证和提高了反应腔体中气体流动分布的均匀性,尾气通过腔体底座中的气腔,底座气腔周身的冷却面对反应尾气进行冷却,可以使反应尾气充分均匀冷却,减少沉积物的产生和避免反应尾气高温损害尾气处理系统。
搜索关键词: 对称 沉积 设备 反应
【主权项】:
一种对称的气相沉积设备的反应腔体,反应腔体设有反应气体输入体(1)和尾气排气口(26),反应腔体内设有反应气体通道(12),腔体外壳(2)和反应腔体内壁(3)之间设有腔壁冷却腔(6),腔壁冷却腔(6)设有腔壁冷却液入口(4)和腔壁冷却液出口(5),载片盘(7)设于载片盘支撑(11)上,载片盘支撑(11)经载片盘支撑旋转轴承(18)安装于腔体底座(27),加热器(9)经加热器支撑(10)安装于载片盘(7)的下方,驱动磁流体(19)和磁流体旋转轴(20)以及传动轮(21)安装于反应腔体的一侧面,经驱动轮(17)与载片盘支撑旋转轴承(18)连接驱动载片盘支撑(11)旋转,其特征在于所述尾气排气口(26)设置在腔体底座(27)的中心位置,腔体底座(27)中间设有环形气体缓冲腔(15)与气腔(25),气腔(25)周身分别设置下底座冷却腔(28)和上底座冷却腔(29),下底座冷却腔(28)与上底座冷却腔(29)互相连通,腔体底座(27)设有环形通道(13),反应气体通道(12)经过环形通道(13)、环形气体缓冲腔(15)连接腔体底座(27)的气腔(25),尾气排气口(26)与气腔(25)相连,环形气体缓冲腔(15)内设有圆周均匀分布的穿过冷却腔(24)并连接气腔(25)的通道(16),腔体底座(27)设有冷却液进口(22)和冷却液出口(23)。
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