[发明专利]光学元件、分析装置、分析方法及电子设备在审
| 申请号： | 201410067294.X | 申请日： | 2014-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN104007494A | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | 杉本守 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G01N21/65;G01N21/55 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学元件、分析装置、分析方法及电子设备。提供基于由光照射激励的表面等离子体的光的增强度大的光学元件。本发明的光学元件（100）包括以第一方向为厚度方向的金属层（10），沿第一方向与金属层（10）分离设置的金属粒子（30），以及使金属层（10）和金属粒子（30）分离的透光层（20），金属粒子（30）的第一方向的大小T满足3nm≤T≤14nm的关系，金属粒子（30）的与第一方向正交的第二方向的大小D满足30nm≤D＜50nm的关系。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 分析 装置 方法 电子设备 | ||
【主权项】：
一种光学元件，其特征在于，包括：金属层，以第一方向为厚度方向；金属粒子，沿所述第一方向与所述金属层分离设置；以及透光层，使所述金属层和所述金属粒子分离，所述金属粒子的所述第一方向的大小T满足3nm≤T≤14nm的关系，所述金属粒子的与所述第一方向正交的第二方向的大小D满足30nm≤D＜50nm的关系。
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