[发明专利]氧化锌基溅射靶及其制备方法和薄膜晶体管在审
| 申请号： | 201410069734.5 | 申请日： | 2014-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN104005000A | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | 朴在佑;金东朝;朴柱玉;孙仁成;尹相元;李建孝;李镕晋;李伦圭;金度贤;全祐奭 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;H01L29/786;H01L23/485 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 尹淑梅;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种氧化锌基溅射靶、一种制备氧化锌基溅射靶的方法以及一种包括通过氧化锌基溅射靶沉积的阻挡层的薄膜晶体管。所述氧化锌基溅射靶包括烧结体，所述烧结体由掺杂大约1%w/w至大约50%w/w范围内的氧化铟的氧化锌组成。背衬板结合到烧结体的背面。背衬板支撑烧结体。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化锌 溅射 及其 制备 方法 薄膜晶体管 | ||
【主权项】：
一种氧化锌基溅射靶，包括：烧结体，包括掺杂有基于氧化锌重量的1%w/w至50%w/w范围内的氧化铟的氧化锌；以及背衬板，背衬结合到烧结体的背面，背衬板支撑烧结体。
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