[发明专利]电化学抛光溶液及电化学抛光石墨栅极的方法、石墨栅极有效
| 申请号： | 201410073381.6 | 申请日： | 2014-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN103834986A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 廖美玲 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电化学抛光溶液及电化学抛光石墨栅极的方法、石墨栅极，用以提供一种有效去除栅极表面污渍，提高栅极质量的电化学抛光溶液和抛光方法。所述电化学抛光溶液，包括：900～1000重量份的水；195～205重量份的碱金属的氢氧化物；49～51重量份的弱酸盐；294～306重量份的添加剂。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学 抛光 溶液 石墨 栅极 方法 | ||
【主权项】：
一种电化学抛光溶液，其特征在于，包括：900～1000重量份的水；195～205重量份的碱金属的氢氧化物；49～51重量份的弱酸盐；294～306重量份的添加剂。
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