[发明专利]交叉栅结构MOSFET及多叉指栅结构MOSFET的版图设计有效
| 申请号： | 201410077465.7 | 申请日： | 2014-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104899343B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 陈静;吕凯;罗杰馨;何伟伟;杨燕;柴展;王曦 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种交叉栅结构MOSFET及多叉指栅结构MOSFET的版图设计，所述交叉栅结构MOSFET的版图设计包括：半导体衬底、十字形交叉栅结构、源区及漏区；所述十字形交叉栅结构包括第一条状栅及与所述第一条状栅垂直的第二条状栅，所述第一条状栅及第二条状栅将所述半导体衬底隔成四个区域；所述源区及漏区交替排列于所述四个区域。本发明可以提高有源区的利用率，增加驱动电流，减小栅电阻，提高最大震荡频率；采用交叉栅结构，采用螺旋状分布源极与漏极，充分利用了版图面积，并可实现多叉指栅结构，可以满足设计电路对器件的需求；同时若对栅的连接采用四端连接时，可以有效的降低栅电阻，从而明显提高器件的功率增益与最大振荡频率。 | ||
| 搜索关键词： | 交叉 结构 mosfet 多叉指栅 版图 设计 | ||
【主权项】：
1.一种交叉栅结构MOSFET的版图，其特征在于，包括：半导体衬底、十字形交叉栅结构、源区及漏区；所述十字形交叉栅结构包括第一条状栅及与所述第一条状栅垂直的第二条状栅，所述第一条状栅及第二条状栅将所述半导体衬底隔成四个区域；所述源区及漏区交替排列于所述四个区域。
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