[发明专利]用于EUV掩模版的表膜和多层反射镜

摘要

本发明公开了一种用于EUV掩模版的表膜、多层反射镜和光刻设备，该光刻设备包括辐射源，配置成产生辐射束；和支撑件，配置成支撑图案形成装置。所述图案形成装置配置成将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束。腔定位在辐射源和图案形成装置之间。所述腔包含配置成反射辐射束的至少一个光学部件，所述腔配置成允许来自辐射源的辐射通过其中。隔膜（44）配置成允许辐射束通过并阻止污染物颗粒（54）通过隔膜的管道。颗粒捕获结构（52）配置成允许气体沿间接路径从腔内部流至腔外部。间接路径配置成基本上阻止污染物颗粒（58）从腔内部到达腔外部。

主权项

一种用于阻止碎片与EUV掩模版接触的表膜，所述表膜包括石墨烯层，其中，所述表膜由表膜框架保持在离开掩模版一固定距离处；或者所述表膜定位在连接表膜的外边缘的支撑部件上，所述支撑部件能够从光刻设备和/或掩模版移除。