[发明专利]一种单片集成的微荧光分析系统及其制作方法

摘要

本发明提供一种单片集成的微荧光分析系统及其制作方法，所述微荧光分析系统包括：硅基底；样品池，形成于所述硅基底中或键合于所述硅基底表面；发光器件，形成于所述硅基底的第一选区中，且所述发光器件的一个出光侧面与所述样品池的第一侧面相对；硅探测器，形成于所述硅基底的第二选区中，且所述硅探测器的一个光探测面与所述样品池的第二侧面相对；集成电路，形成于所述硅基底中，用于对检测信号进行信号处理、驱动激发光光源、信号分析以及控制信号输出。本发明利用微机电(MEMS)加工技术和CMOS工艺，将荧光分析系统加工在同一硅基平台上，具有极微小的系统体积、极低的制作成本和分析成本，并且真正实现了芯片实验室（LOC）。

主权项

一种单片集成的微荧光分析系统，其特征在于，包括：硅基底；样品池，形成于所述硅基底中或键合于所述硅基底表面，用于承载试样；发光器件，形成于所述硅基底的第一选区中，且所述发光器件的一个出光侧面与所述样品池的第一侧面相对，作为试样的激发光光源；硅探测器，形成于所述硅基底的第二选区中，且所述硅探测器的一个光探测面与所述样品池的第二侧面相对，用于检测从所述试样产生的荧光；集成电路，形成于所述硅基底中，用于对检测信号进行信号处理、驱动激发光光源、信号分析以及控制信号输出。