[发明专利]分析装置及方法、光学元件及其设计方法以及电子设备无效

专利信息
申请号: 201410079129.6 申请日: 2014-03-05
公开(公告)号: CN104034657A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 杉本守;真野哲雄;江成芽久美 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00;H05H1/24;G02B5/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种具备基于由光照射激发的等离子体的增强电场大的光学元件的分析装置及方法、光学元件及其设计方法以及电子设备。本发明的分析装置具备:光学元件,其包括金属层、设置于金属层上且透过光的透光层、在透光层上在第一方向以第一间隔排列并且在与第一方向交叉的第二方向以第二间隔排列的多个金属粒子;光源,其照射入射至光学元件的入射光;检测器,其检测从光学元件放射的光,光学元件的金属粒子的配置满足下式(1)的关系,向光学元件照射与第一方向相同方向的直线偏振光以及与第二方向相同方向的直线偏振光。P1<P2…(1),其中,P1表示第一间隔,P2表示第二间隔。
搜索关键词: 分析 装置 方法 光学 元件 及其 设计 以及 电子设备
【主权项】:
一种分析装置,具备:光学元件,其包括金属层、设置于所述金属层上且透过光的透光层、及在所述透光层上在第一方向以第一间隔排列并且在与所述第一方向交叉的第二方向以第二间隔排列的多个金属粒子;光源,其照射入射至所述光学元件的入射光;以及检测器,其检测从所述光学元件放射的光,所述光学元件的所述金属粒子的配置满足下式(1)的关系,所述光学元件被照射与所述第一方向相同方向的直线偏振光以及与所述第二方向相同方向的直线偏振光,P1<P2…(1)其中,P1表示所述第一间隔,P2表示所述第二间隔。
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