[发明专利]一种带有抛光功能的研磨盘有效
| 申请号： | 201410079959.9 | 申请日： | 2014-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN103878684A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 金明生;计时鸣;张利;潘烨 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B37/16 | 分类号： | B24B37/16 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 吴秉中 |
| 地址： | 310014 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种带有抛光功能的研磨盘，适用于光学元件、非晶薄膜衬底等工件表面的研磨与抛光加工。它包括包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。本发明结构简单紧凑，成本较低，自动化程度高，通过螺旋形研磨盘的磨料粒度梯度化设计，可以对工件分别进行从粗磨到精抛的不同程度的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带有 抛光 功能 研磨 | ||
【主权项】：
一种带有抛光功能的研磨盘，其特征在于：包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。
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