[发明专利]一种静密封装置有效
| 申请号： | 201410083303.4 | 申请日： | 2014-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN103791087A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 吴银辉 | 申请（专利权）人： | 吴银辉 |
| 主分类号： | F16J15/04 | 分类号： | F16J15/04 |
| 代理公司： | 长沙星耀专利事务所 43205 | 代理人： | 姜芳蕊;宁星耀 |
| 地址： | 410004 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种静密封装置，包括工件密封墙和端盖密封墙，工件密封墙固设于工件密封面整个内侧边沿上，工件密封墙外壁设有至少两个活塞环槽，活塞环槽内装有活塞环；端盖密封墙固设于端盖密封面整个内侧边沿上，端盖密封墙的内壁与工件密封墙的外壁相贴合，端盖密封墙的高度与工件密封墙的高度相配合，即端盖密封墙的高度大于或等于工件密封墙的高度。本发明密封元件（即活塞环、工件密封墙和端盖密封墙）能重复使用，密封面无需清理，原有的紧固螺丝也可减少。维修简便快捷，成本低，密封良好，润滑油很难泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密封 装置 | ||
【主权项】：
一种静密封装置，其特征在于，包括工件密封墙和端盖密封墙，工件密封墙固设于工件密封面整个内侧边沿上，工件密封墙外壁设有至少两个活塞环槽，活塞环槽内装有活塞环；端盖密封墙固设于端盖密封面整个内侧边沿上，端盖密封墙的内壁与工件密封墙的外壁相贴合，端盖密封墙的高度与工件密封墙的高度相配合，即端盖密封墙的高度大于或等于工件密封墙的高度。
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