[发明专利]形成用于FO-EWLB中电源/接地平面的嵌入导电层的半导体器件和方法有效
申请号: | 201410085270.7 | 申请日: | 2014-03-10 |
公开(公告)号: | CN104037124B | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 林耀剑;包旭升;陈康 | 申请(专利权)人: | 新科金朋有限公司 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/538;H01L23/60 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周学斌;胡莉莉 |
地址: | 新*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | 一种半导体器件具有第一导电层和与所述第一导电层相邻布置的半导体管芯。在所述第一导电层和半导体管芯上沉积密封剂。在所述密封剂、半导体管芯和第一导电层上形成绝缘层。在所述绝缘层上形成第二导电层。将所述第一导电层的第一部分电连接到VSS并形成接地平面。将所述第一导电层的第二部分电连接到VDD并形成电源平面。第一导电层、绝缘层和第二导电层构成解耦电容器。在所述绝缘层和第一导电层上形成包括第二导电层的迹线的微带线。在嵌入虚管芯、互连单元或模块化PCB单元上提供第一导电层。 | ||
搜索关键词: | 形成 用于 fo ewlb 电源 接地 平面 嵌入 导电 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制作半导体器件的方法,包括:提供半导体管芯;与所述半导体管芯相邻地布置第一接地平面;在所述第一接地平面和半导体管芯上沉积密封剂;以及在所述第一接地平面、半导体管芯和密封剂上方形成导电层,其中所述导电层包括,从所述第一接地平面电耦合到电压参考电路节点的导电迹线,以及直接在所述第一接地平面上形成的信号迹线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造