[发明专利]一种晶片清洁室有效
| 申请号： | 201410087235.9 | 申请日： | 2014-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN104907283B | 公开（公告）日： | 2018-03-27 |
| 发明（设计）人： | 吴红帅;张程 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;B08B13/00;H01L21/67;B01D46/00 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙)31249 | 代理人： | 张静洁,包姝晴 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶片清洁室，其包含设置在该晶片清洁室顶部的一个或多个静压箱，通过对应的管道将压缩空气引入各静压箱中；每个静压箱下部对应设置有腔室，由各静压箱底部的出风面输送清洁空气至对应腔室，将腔室内晶片上面附着的颗粒物质吹走，从而提升产品品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 清洁 | ||
【主权项】：
一种晶片清洁室，其特征在于，包含：设置在该晶片清洁室顶部的一个或多个静压箱（10），通过对应的管道将压缩空气引入各静压箱（10）中；每个静压箱（10）下部对应设置有腔室（40），经由各静压箱（10）底部的出风面，将空气吹送至置于对应腔室（40）内的晶片（70）表面进行清洁。
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